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    • 所属分类:电子束蒸发与电阻蒸发复合镀膜
    • 浏览次数:
    • 发布日期:2022-11-28 15:38:44
    • 产品概述
    • 性能特点
    • 技术参数

    设备用途:

    EB500型电子束蒸发与电阻蒸发复合镀膜系统用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等,广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产。

    设备组成:

    系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。

    技术参数:

    极限真空度:≤6.67×10-5Pa;

    抽速:45分钟可达到6.67×10-4Pa;

    基片尺寸:4英寸x1片;

    加热炉Z 高温度800°C;

    热阻蒸发组件:2套;

    新型电子枪及电源:电子枪Z 大功率8KW(10KV,800mA)可调;

    水冷式坩埚: 4穴坩埚,每个容量约为11 ml;

    膜厚控制仪(1个探头):1套;

    分子泵系统:1套;

    控制系统:用工控机进行系统操作,可显示或自动控制的功能有:电子枪、膜厚控制仪、样品旋转及加热、气路、抽气;

    冷却水循环机及水路组件:1套;

    离子轰击系统组件:1套。

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